石墨烯納米帶的本征遷移率

    石墨烯是零帶隙半導體材料(又稱半金屬),它的一個突出優點是具有非常高的載流子遷移率。為了将石墨烯應用于新一代電子學,通常需要在石墨烯材料中将帶隙打開。但是,帶隙的打開往往會導緻遷移率的下降。因此,如何兼顧帶隙與遷移率,就成為石墨烯研究的一個重要問題。最近,我們對石墨烯納米帶的遷移率性質進行研究,導出本征遷移率的一個解析公式,不但很好地說明了第一性原理計算的結果,并且預言了應變導緻的輸運極性的翻轉。

 

    該研究成果以封面文章的形式發表在Journal of Chemical Physics上:Jinying Wang, Ruiqi Zhao, Mingmei Yang, Zhongfan Liu*, and Zhirong Liu (2013) Inverse relationship between carrier mobility and band gap in graphene. J. Chem. Phys. 138, 084701/1-5. 論文第一作者為化學學院直博生王進瑩(2014屆畢業生,導師劉志榮)。

 


文章鍊接:Jinying Wang, Ruiqi Zhao, Mingmei Yang, Zhongfan Liu*, and Zhirong Liu*. Inverse relationship between carrier mobility and band gap in graphene. J. Chem. Phys. 138, 084701 (2013). (封面文章)